蘇揚看了半秒劉元龍，道“這些設備，的確是最新的半導體核心設備，尤其是光刻機。”

    說著，指著光刻機道“這臺光刻機里面的激光器、光束矯正器、能量控制器、光束形狀設置、遮光器、能量探測器、掩模版都是國際最前沿的技術產品?！?/br>
    蘇揚繼續(xù)道“另外，掩膜臺的運動控制精度達到納米級，物鏡、量臺、曝光臺、內部封閉框架、減振器等物，也都是目前最先進的產品?！?/br>
    “當然，最主要的還是這臺光刻機的光源，并非是目前國際國內流行的深紫外光。”

    “所采用的光是135n的軟x射線，也就是極紫外光作為光源?！?/br>
    蘇揚的話音落下。

    現場陡然變得一片寂靜。

    四名高冷的保鏢們不知所云，作為退役的軍人，他們對這些科技玩意兒一無所知，完全聽得云里霧里。

    但看到半導體公司的人，一個個都瞠目結舌，傻了似的，又覺得boss的話不明覺厲。

    短暫的寂靜之后，便是一片嘩然，安正國等七人議論紛紛。

    “這……”

    “采用的是135n的極紫外光？”

    “怎么可能，我前兩天才剛剛看的新聞，尼康公司的光刻機，也才在準備進發(fā)32n半導體工藝，而光源依舊用的是193n的深紫外光啊！”

    “是啊，曝光波長一下子降到135n，這豈不是意味著……它能夠把光刻技術擴展到32n以下的特征尺寸了?。?！”

    “蘇總，您別不是在逗我們開心啊，現在全球范圍內，絕對沒有任何一家半導體公司，能造出這樣的設備！”

    “蘇總，這到底是真是假?。　?/br>
    幾名遠揚半導體的高層，一個個都紅著眼眶，把目光不斷在蘇揚和光刻機的身上徘徊。

    作為半導體制造業(yè)皇冠上的明珠，光刻機的意義不言而喻。

    芯片在生產中需要進行2030次的光刻，耗時占到ic生產環(huán)節(jié)的50左右，占芯片生產成本的三分之一。

    通常意義上來說，只要解決光刻機的問題，那么芯片制造的工程，就完結了一半。

    因此，也不怪幾個搞半導體的家伙，像是癡·漢一樣看著他。

    蘇揚笑道“行了，你們也別這樣看我，是真是假，我嘴上說了也沒用，召集人員進行一次實驗，不就一目了然了？安總，工廠內應該是有光刻膠和硅片的吧？”

    安正國一愣，連忙道“有，都儲存著呢，我馬上找人來進行實驗?！?/br>
    說著，安正國立刻召集人手，搬來相應的半導體材料。

    半導體芯片生產主要分為ic設計、ic制造、ic封測三大環(huán)節(jié)。

    所謂ic，就是集成電路的英文簡寫。

    ic設計是高端技術，也是ter等公司，能屹立于半導體行業(yè)巔峰最重要的因素之一。

    主要根據芯片的設計目的，進行邏輯設計和規(guī)則制定，并根據設計圖制作掩模，以供后續(xù)光刻步驟使用。

    而ic制造，就是半導體芯片的制造了。

    一般，要實現芯片電路圖從掩模上轉移至硅片上，并實現預定的芯片功能。

    包括了光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、化學機械研磨等步驟。

    至于ic封測，就是完成對芯片的封裝和性能、功能測試，是產品交付前的最后工序。

    ic設計就不提了，蘇揚有蘋果a6處理器的技術，其中就包括了32n芯片的設計。

    另外，商城掛著的ter酷睿系列，也有45n——14n芯片的工藝技術。

    而在ic制造中，光刻又是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。

    其中的難點和關鍵點，在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上。

    這一過程，目前只能通過光刻，才能最有效地實現。

    所以，光刻的工藝水平，往往直接決定了芯片的制程水平和性能水平。

    安正國找來技術人員和材料，在蘇揚的指導下，這些專業(yè)生產芯片的員工，初步了解到這臺光刻機的使用流程。

    光刻的原理，實際上非常簡單。

    在硅片表面覆蓋一層具有高度光敏感性的光刻膠，再用光線透過掩模照射在硅片表面。

    被光線照射到的光刻膠，會發(fā)生反應。

    此后，再用特定的溶劑洗去被照射或未被照射的光刻膠，就實現了電路圖從掩模到硅片的轉移。

    這和華夏古代的印刷術，實際上有一些相似之處，但光刻技術卻比印刷術難了千萬倍。

    一般的光刻步驟，有氣相成底膜、旋轉涂膠、軟烘、曝光、顯影、堅膜。

    接著，就是進行檢測，主要是顯影檢測，讓合規(guī)的硅片進入后續(xù)的蝕刻流程。

    所謂蝕刻，便是通過化學或物理的方法，有選擇地從硅片表面，除去不需要材料的過程。

    完成之后，就能通過特定溶劑，洗去硅片表面殘余的光刻膠了。

    當然，這是最簡易的光刻步驟，在實際生產制造中，比這復雜了上百倍。

    從開始光刻，到最后洗去殘余的光刻膠，幾個步驟，就足足花了三個多小時。

    當然，這里面也有一些員工剛剛接觸新設備，cao作不順手的因素。

    當時間來到下午四點半的時候。

    車間內，一片驚喜和歡騰的景象。

    “出來了，居然真的做出來了！”

    “60n的電路圖，居然真的被我們轉移到了硅片上?！?/br>
    “不可思議??！全華夏能做60n芯片的企業(yè)，不超過三家，而且全是在18年下半年才剛剛突破的技術，還是在實驗室里！做到量產的話，得到今年年底，甚至是明年年初去了?！?/br>
    “是啊，而我們現在，卻擁有了一臺可以量產60n芯片的光刻機，如果cao作熟練了，速度提上去，再進行交替光刻，一天至少可以造上數百片12寸的圓晶??！”

    “這是一個突破，了不起的突破，如果我們把這里發(fā)生的事情，宣布出去，足以震驚整個華夏，乃至是中央都要被驚動！”

    華夏在半導體行業(yè)，被壓了太多年了。

    從上個世紀以來，就一直跟在西方國家的屁股后面跑，說是向人家乞討技術也不為過。

    雖然60n芯片的量產，和45n芯片的量產，還有一定的差距。

    但是，在工藝水平上，也能證明華夏沒比ter等落后太多了。

    這是一個十分漲士氣的突破。

    一旁，劉元龍沉聲道“各位，你們難道沒有意識到嗎？剛才我們用的，只是這臺光刻機最底線的精度！”

    這話一出，幾名興奮的家伙，立刻止住了話音，轉而張了張嘴巴，眼睛立刻掙得大大的。

    “是啊，剛才用的還是最低的精度！”

    “沒錯，往上一個刻度的話，豈不是意味著……45n甚至32n的芯片也有可能了？”

    “不對，我之前看過一篇學術報告，euv光刻技術的真正領域，是32n，不，是22n以下的領域！”

    “22n以下，這……這也太瘋狂了吧?！?/br>
    “……”